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涂膠顯影機設備行業迎來新轉機

  涂膠顯影機設備是芯片制程中必不可少的處理設備,利用機械實現晶圓在各系統間的傳輸和加工,與光刻機達成完美配合從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影等工藝過程。作為光刻機的輸入即曝光前光刻膠涂覆和輸出即曝光后圖形的顯影,涂膠顯影機的性能不僅對細微曝光處的形成造成直接影響,而且其顯影工藝的圖形質量和誤差控制對后續蝕刻、離子注入工藝中的圖形轉移結果也有著深刻的影響。
  一方面,國內半導體行業的快速發展成為國產涂膠顯影設備行業的內生動力,中國企業在半導體上的資本支出于2018年高達1100億美元,首次突破1000億美元,超過歐洲和日本企業半導體資本支出之和107億美元。另一方面,中國在此次疫情中對內保生產、保民生,對外伸援手,努力填補全球產業鏈,彰顯負責人大國形象,讓社會各界更加信任中國制度下的供應鏈發展。

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