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涂膠顯影機設備國產化勢在必行

  涂膠顯影機設備是光刻工藝主設備之一,也是芯片制程中必不可少的處理設備。它利用機械手實現晶圓在各系統間的傳輸和加工,與光刻機達成完美配合從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影等工藝過程。作為晶圓加工環節的重要工藝設備,涂膠顯影設備在晶圓廠設備采購中占據重要地位。
  作為光刻機的輸入即曝光前光刻膠涂覆和輸出即曝光后圖形的顯影,涂膠顯影機的性能不僅對細微曝光處的形成造成直接影響,而且其顯影工藝的圖形質量和誤差控制對后續蝕刻、離子注入工藝中的圖形轉移結果也有著深刻的影響。
  半導體生產中有前道工藝和后道工藝, 前道工藝指的是從硅片加工開始直到在硅片上制成集成電路結束的工藝流程。涂膠顯影設備作為集成電路制造前道晶圓加工環節的重要工藝設備,在晶圓廠設備采購中占有十分重要的地位。近年來芯片的發展一度成為各國間的角逐點,帶動全球晶圓廠設備的需求,也使得全球前道涂膠顯影設備份額呈現增長態勢。據統計,全球前道涂膠顯影設備銷售額由2013年的14.07億美元增長至2018年的23.26億美元,年復合增長率達10.58%,預計2023年將達到24.76億美元。
 
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