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工藝測試機

中道濕法機臺

  • TDW1200/800/600
  • W 型產品
  • W 型架構產品滿足半導體濕法清洗工藝生產需要,單元模塊環繞 Robot 設計,可選配多種濕法清洗功能部件,滿足半導體前道/高端封裝/MEMS/LED 等不同清洗工藝生產的客戶需求
  W 型架構產品滿足半導體濕法清洗工藝生產需要,單元模塊環繞 Robot 設計,可選配多種濕法清洗功能部件,滿足半導體前道/高端封裝/MEMS/LED 等不同清洗工藝生產的客戶需求。
  . 適用于 6 英寸,8 英寸或 12 英寸產品
  . 基材:硅晶圓、玻璃等
  . 適用于 single wafer 濕法清洗工藝產品生產
  . 模塊化的單元便于維護
  . 圖形化的人機交互界面


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